Druga edycja Silesia Art Biennale, organizowana przez Ośrodek Kultury i Sztuki we Wrocławiu w ramach programu Europejskiej Stolicy Kultury Wrocław 2016, stanowi próbę zgłębienia fenomenu, jakim jest potencjał artystyczny większych miast, ale i mniejszych ośrodków, szczególnie zaś tzw. kolonii artystycznych Dolnego Śląska.
Głównym zamysłem tegorocznego programu było ukazanie inicjatyw i praktyk z zakresu sztuki nagromadzonych na terenie regionu. Część artystyczna obejmowała wizualną i audialną dokumentację działalności twórców tu mieszkających, za co podczas czterech plenerów odpowiadali: Andrzej Dudek-Dürer, Jacek Jaśko, Wacław Ropiecki, Krzysztof Saj, Rafał Warzecha, Igor Wójcik, Małgorzata Kazimierczak, Mirosław Rajkowski oraz Mariusz Marks. W wyjazdach udział brała również grupa naukowców z Instytutu Kulturoznawstwa Uniwersytetu Wrocławskiego. Efekty plenerowej części działań zaprezentowane zostaną na wystawie w Dolnośląskim Centrum Fotografii „Domek Romański” (17 listopada – 23 grudnia), która zawierać będzie około 90 portretów artystów oraz materiały filmowe szerzej ukazujące ich działalność i otaczający świat. Wystawę wzbogaci reportaż o badaniach i pracach dokumentacyjnych, a także indywidualne mini-prezentacje obejmujące fotografie pracowni, dzieł czy zdarzeń mających miejsce w trakcie wyjazdów.
18 listopada podczas sympozjum w Instytucie Kulturoznawstwa UWr uczeni, eksperci i twórcy przedstawią swe refleksje na temat praktyk i tradycji związanych z manifestacjami estetycznymi i ekspresjami artystycznymi na Dolnym Śląsku. Tegoroczną edycję Biennale zwieńczy publikacja, w której znajdą się teksty i wypowiedzi badaczy, krytyków sztuki oraz artystów zajmujących się kwestią fenomenu kulturowego regionu, a także powstałe w trakcie wyjazdów fotografie.
Silesia Art Biennale 2016 rozpocznie się w czwartek 17 listopada 2016 r. i będzie trwać do 23 grudnia 2016 r. w Ośrodku Kultury i Sztuki we Wrocławiu.
